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Novasina 水活性儀感測器與過濾器選擇指南完整指南教您選擇適合的 Novasina 水活性儀感測器與過濾器,提升測量準確度並延長設備壽命!針對樣品特性(如揮發性物質、酒精或酸性化合物)推薦專用感測器與過濾器,避免污染影響良率並保護感測器運行穩定性。提供各機型搭配建議、過濾器更換頻率及注意事項,協助用戶輕鬆選擇適配的高效清潔方案,確保最佳測試結果與設備長效使用。食品粉末的品質管理粉體流動性是影響整個產線效率及最終品質的關鍵參數,隨著市場需求不斷演變,特別是對高品質、易於使用的粉狀產品的需求增長,粉體流動性已經成為設計高效生產流程和滿足現代消費需求的重要因素。而在食品工業中,粉體流動性不僅與生產成本緊密相關,更會直接影響產品的一致性和功能性,本篇文章將針對幾個常見的應用實例,探討粉體流動性影響食品產業的關鍵。維持恆溫設備的性能:熱交換液檢測技巧為確保設備的正常運行,確保生產效率及產品品質,控制設備溫度至關重要。然而#熱交換液 在運行過程中會隨著時間的推移劣化,影響冷卻性能及設備壽命,根據不同的環境及使用方式,除了定期每半年的一次的冷卻水迴路的除垢,我們也提供您以下方法,若發現以下特徵可以及時更換,能夠防止系統性能下降,確保設備的穩定性,減少維修成本並提升整體運行效率。dataphysics 獨家優勢:滿足表面測量的多元需求DataPhysics Instruments 提供各種用於分析表面和界面化學及物理性質的測量設備。這些測量設備還配有多樣化的配件和擴展選項。因此,量身定制的測量設備與配件的組合可以輕鬆應對您的個人表面和界面測量挑戰。CMP 漿料的品質管理當我們能在一塊小小的晶片上放入更多更小的電晶體,晶片所能執行的運算就會更加的快速且複雜。在現今的積體電路加工產業,要想將晶片做到細緻的加工,傑出的光刻技術、封裝技術、新穎材料都至關重要 —— 建立在這些基礎上,從一塊晶圓開始慢慢搭建一層一層的電晶體,過程中我們必須確保在每一層的加工後能夠將多餘的部分完美切削研磨,形成足夠平坦的面才能再進行下一步的加工 —— 不夠完美的研磨,可能造成技術與材料的浪費。本篇文章將深入探討在晶圓加工上的重要環節「化學機械平坦化(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)」。化學機械平坦化意即通過使用研磨漿料 (以下統稱CMP Slurry) 對晶圓進行打磨使其平坦化以利加工,而漿料又會再細分成「介電層研磨液」或是「金屬研磨液」,兩者在磨料的選擇上會有所區隔,並且分散相的酸鹼值也會因應調整,有時更需要添加額外的化學試劑以達特定目的 (eg. 添加氧化劑來加速金屬氧化)。這些成份複雜且需要精準控制的CMP Slurry若是品質稍有差池,就會影響晶圓加工的良率,本篇文章將整理三點CMP Slurry的指標參數及其在品質管理上為何能成為關鍵的原因。