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什麼是 Zeta 電位?

為什麼要測量 Zeta 電位?

常見的 Zeta 電位測試原理

Zeta 電位的產業應用


什麼是 Zeta 界達電位?

Zeta 界達電位 (Zeta Potential) 是衡量顆粒間靜電排斥或吸引強度的指標,也是膠體或分散體系統穩定性分析的重要參數。Zeta 電位可用來了解懸浮液中顆粒的靜電相互作用,進而評估顆粒分散、聚集或絮凝的穩定性,這對於優化分散體、乳化液及懸浮體的配方有著重要的影響力。

與粒徑不同的是,Zeta 電位並非粒子的固有特性,而是系統特徵之一,會受到介質(如離子濃度、離子類型和 pH 值)的影響,因此測量時通常會結合不同 pH 值下的滴定來進行。Zeta 電位的絕對值越高,系統越穩定;當 Zeta 電位接近零時,顆粒間的排斥作用減小,較容易發生凝聚,而當 Zeta 電位為強正或強負時,則會產生強大的排斥力,從而提升穩定性。此外,Zeta 電位通常以毫伏特 (mV) 為單位,描述奈米級膠體微粒在滑動面 (Slipping Plane) 上的電位。

為什麼要測量 Zeta 電位?

Zeta 電位主要測量懸浮液中顆粒的電荷特性,這對於預測和控制膠體系統的穩定性相當關鍵。當顆粒在液體中移動時,它們會帶有電荷,這種電荷會影響顆粒之間的相互作用。高的 Zeta 電位通常表示顆粒之間的排斥力強,有利於膠體溶液維持穩定的懸浮膠體狀態。反之,則可能導致凝聚或沉降。
 

一般會藉由 Zeta 電位分析儀測量和分析顆粒特性,用於研究顆粒表面電荷和界面電勢(如 Zeta 電勢和流動電勢),藉此評估懸浮液、乳液和奈米顆粒的顆粒聚集可能性。

Zeta 電位代表著微粒到溶液正負兩層離子交界面的厚度,也就是微粒滑動面離微粒表面的距離。一般來說,電位越大,距離厚度也越大,微粒間就更不容易吸引團聚。

常見的 Zeta 電位測試原理

Zeta 電位測量通常使用電泳光散射技術(Electrophoretic Light Scattering, ELS)。利用激光(雷射)照射樣品,檢測帶電顆粒在電場中移動時產生的光散射信號,進而測定顆粒在電場中的移動速度,來推算出 Zeta 電位數值。當施加電場時,帶電顆粒會向相反極移動,其速度可以通過激光散射來測量。根據多普勒效應,散射光的頻率變化可用於計算顆粒的運動速度,進而推導出 Zeta 電位。
 

這一過程通常涉及以下步驟:

    1.    將樣品放入測量池中。

    2.    施加電場並記錄顆粒運動引起的光散射變化。

    3.    根據運動速度和施加的電場強度計算 Zeta 電位。

使用 ELS 技術之儀器 NANOTRAC WAVE II 更透過創新設計消除多種空間位阻對散射光信號的干擾、避免熱效應,且可以同時測量粒徑、Zeta電位與分子量。
 

除了常見的電泳光散射技術,另一種方法是透過活塞在圓筒中上下往復運動,測量固定顆粒的電荷分布。以這種技術測量 Zeta 電位的 STABINO 不僅能藉此快速完成滴定循環(僅需5-15分鐘),還能處理濃度高達40%體積的樣品,極大地提升測試效率,特別適合高濃度樣品的分析需求。
 

此兩種不同的分析技術擁有不同特點,透過以下表格將說明用不同分析法的儀器去測量 Zeta 電位所帶來的好處:

型號 NANOTRAC WAVE II STABINO
示意圖
測量範圍 0.3奈米 ~ 10微米 0.3奈米 ~ 300微米
測量方法 ELS 電泳光散射技術 圓筒活塞往復運動
可測得資訊 粒度、Zeta電位和分子量 zeta電位、流動電位、電導率、pH值和溫度
特點 • 無需傳統的比色皿
• 無需精確定位靜止層
• 單一樣品池可進行多種測量
• 一分鐘內得出分析結果
• “Y”型光纖探針光路設計減少了多重散射現象
• 典型的滴定循環只需5-15分鐘
• 大分子溶液到顆粒懸浮液均適用
• 圓筒中上下往復運動,測量電荷分布
• 可處理濃度高達40%
• 內建混合、均化和信號測試

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Zeta 電位的各種產業應用

Zeta 電位可以測量顆粒、膠體、乳液和懸浮液的穩定性,常用於改善產品配方。主要應用行業包括化妝品、食品、製藥、材料科學和水處理等。
(行動裝置請左滑以查看更多)

製藥與醫學 食品工業 化妝品

在藥物配方中,Zeta 電位用於評估藥物懸浮液和乳化液的穩定性,以確保藥物有效傳遞。

幫助穩定乳劑和懸浮液,改善食品產品如沙拉醬、飲料等的質感和外觀。

確保乳霜和乳液中的活性成分均勻分佈,防止相分離,提高乳霜、洗面奶等產品的穩定性與使用效果。
油漆與塗料 水處理 半導體

透過 Zeta 電位分析優化奈米材料與膠體系統的表面改性及材料性能,可有效改善顏料分散與膜形成的穩定性。這不僅提升顏料的分布均勻性,確保塗料色彩一致且附著力佳,同時顯著增強產品的耐久性。

通過絮凝劑調整 Zeta 電位來促進水中污染物、懸浮物的聚合,能更有效地清除髒汙。

在半導體 CMP 濕式拋光過程中,漿料中的微粒若凝聚,可能會對表面造成損傷,如刮痕或缺陷。為了避免這種情況,必須通過 Zeta 電位監控微粒狀況,以確保拋光製程的品質控制。

Zeta 電位分析在許多行業中扮演著品質管理的重要角色,其分析不僅幫助提高產品質量,還能延長產品壽命並增強其市場競爭力。立即預約免費專人服務,協助您挑選最適合的 Zeta 電位分析儀!
 

  • Microtrac STABINO - ZETA 電位分析儀
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    Microtrac Stabino ZETA是一款專業儀器,用於快速、精確地測量顆粒的表面電荷和穩定性,特別適合分析懸浮液、乳液和奈米顆粒。可在幾秒鐘內同時測量...