Microtrac 顆粒特性表徵分析 - 台灣大昌華嘉科學儀器 ─ DKSH

品牌介紹 Brands

顆粒特性分析的領導品牌

2020年，顆粒性質分析領域的領先公司 RETSCH Technology、Microtrac 和 MicrotracBEL 聯合起來，成為一個強大的品牌：Microtrac！
這三個公司都熱衷於使顆粒分析更準確、更有效和更方便，以超越客戶的期望。Microtrac 將攜手合作，繼續為每種應用尋找卓越的解決方案，並提供最佳的客戶服務！

Microtrac 顆粒特性表徵分析

三個品牌結合建立了 MICROTRAC 的強大根基

成為完整顆粒分析解決方案的提供者

Microtrac 和 MicrotracBEL 在雷射光繞射、動態光散射和表面和孔隙度分析方面的產品完美補充了 RETSCH Technology 的動態和靜態圖像分析儀產品組合。

藉由台灣大昌華嘉在製藥、生技、蛋白質、粉體、水泥、瀝青、塑料及高分子聚合物等領域的顆粒特性分析上累積了豐富經驗與成功案例，強強聯手，在粒徑分佈、粒子形狀、濃度、表面電位、分子構型、分子量、流變與黏度及生物分子穩定性等，我們皆是客戶對於顆粒性質表徵分析需求上的首要選擇。

粒徑分析在半導體產業的應用：CMP 化學機械平坦化

CMP 是半導體製程中的關鍵步驟，透過 CMP slurry（研磨漿料）打磨晶圓表面，以確保每層電路結構的平整度。
研磨漿料通常由奈米級氧化矽（SiO₂）顆粒組成，需確保其粒徑小且均勻分布，以提升打磨細緻度並降低晶圓刮傷風險（scratch）。若 CMP slurry 顆粒大小不均勻，可能導致晶圓表面刮傷，影響良率。
顆粒大小也影響去除速率（Removal Rate, RR），需精確控制在一定範圍，不能太高或太低，避免影響研磨表現與研磨終點（EPD）的控制，以確保生產效率與研磨品質平衡。
CMP slurry 在不同的 pH 環境會影響其分散性，若顆粒聚集，可能導致晶圓刮傷。透過 Zeta 電位分析，可確保漿料在最佳 pH 值條件下維持顆粒穩定分散，提高製程穩定性。

適用機台建議

DLS（動態光散射）系列產品：專門監測奈米級 CMP slurry 的粒徑分布，確保研磨效果與晶圓表面品質。

Zeta 電位分析儀：分析漿料的帶電性與顆粒聚集穩定性，避免顆粒團聚造成大小不一刮傷晶圓。

歷史沿革

Microtrac BEL

MicrotracBEL 是一家領先的公司，開發、製造和銷售各種氣體和蒸汽吸附量、BET 表面積和孔徑分佈測量儀器，用於使用氣體吸附技術的多孔和非多孔材料。公司還經營以激光衍射散射和DLS為核心技術的Microtrac粒度分佈測量設備。

公司產品廣泛應用於世界各地正在積極開發的各類功能性粉體材料的研究與質量控制（QC）和質量保證（QA）領域。

MicrotracBEL 總部位於日本大阪。

MILESTONES

2018
推出自動比表面積/孔徑分佈測量儀 BELSORP-miniX

2013
介紹多樣品 BET 表面積測量系統 BELSORP-MR6

2006年
催化分析儀 BELCAT-A 上市

2002年
採用吸附柱 BELSORP-Dyna 的突破曲線測量系統首次亮相

1991
高精度表面積和孔徑分析儀 BELSORP-28SA 上市。

1988年
MicrotracBEL 成立為 BEL JAPAN, Inc.，並開始銷售第一批產品。

1987年
推出高精準度氣體吸附儀BELSORP-28

1985年
Hiromitsu Naono 教授和他的研究生 Kazuyuki Nakai（現任 MicrotracBEL CEO）開始開發第一台“自動氣體吸附等溫線測量儀”。

Microtrac

Microtrac 是用於粒徑分析的光散射儀器的先驅和領先製造商。雖然 Microtrac 最初是作為一個更大組織中的一個業務部門存在的，但 Microtrac Inc. 公司最終成立於 1999 年，此後一直在穩步發展。這些儀器用於工業應用和材料研究。

Microtrac 總部位於美國，Microtrac 在賓夕法尼亞州的蒙哥馬利維爾和約克開發和製造所有產品。

MILESTONES

2018
推出 Microtrac Sync：這台儀器中能同步進行顆粒大小和形狀測量。

2012
引入 Nanotrac Wave 這台設備中提供粒徑、zeta 電位和分子量等性質分析。

2007年
Bluewave 雷射粒徑分析儀的首次亮相，它使用藍色激光（不僅僅是藍色光源）來產生繞射儀器中可用的最高分辨率和靈敏度。

1987年
Microtracs 的第一台固態探測器儀器型號 7997 首次亮相。

1974年
首款雷射粒徑分析儀 Microtrac 7991 上市。

1972年
Microtrac 創立

Microtrac Retsch

Microtrac Retsch（前身為 Retsch Technology）是圖像分析設備的領先供應商，20 多年來一直成功開發光學粒子分析儀。他們創新的 CAMSIZER 系列基於獨特的雙攝像頭技術，徹底改變了動態圖像分析。這些分析儀用於各個行業的生產和品質控制以及研發。

Microtrac Retsch 位於德國哈恩/杜塞爾多夫的 VERDER SCIENTIFIC 總部。

MILESTONES

2020
在合併為 Microtrac MRB 的同時，Retsch Technology GmbH 更名為 Microtrac Retsch GmbH。

2019
Retsch Technology 推出 CAMSIZER M1，通過靜態圖像分析儀增強產品組合。

2014-2017
具有創新功能的 Camsizer 產品組合的持續技術改進；推出 P4 和 X2 型號。

2011
推出帶有可選模塊的 CAMSIZER XT，用於乾濕測量。

2006年
使用 AutoHeight、LED 技術、軟體改進 CAMSIZER®，提高分辨率、清晰度和對比度。

2002-2003
為 CAMSIZER® 引入了新的形狀特徵並進入在線安裝；推出自動進樣器系統。

2000
在 Retsch 旗下運營後，將 Retsch Technology 轉移到一家獨立公司，致力於創新的 CAMSIZER® 粒徑儀和獨特的專利 2 攝像頭系統。