Microtrac MRB NANOTRAC WAVE II 奈米粒徑及ZETA電位分析儀

NANOTRAC WAVE II採用先進的“Y”型光纖探針光路設計,配置膜電極產生微電場,操作簡單,測量迅速,無需精確定位由於電泳和電滲等效應導致的靜止層,無需外加大功率電場,無需更換分別用於測量粒度和Zeta電位的樣品池,完全消除由於空間位阻(不同光學元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學信號的損失,結果準確可靠,重現性好。
詳細介紹
產品詳情
 

納米粒度測量——先進的動態光背散射技術
 

Zeta電位測量:Microtrac MRB以其在激光衍射/散射技術和顆粒表徵方面的獨到見解,經過多年的市場調研和潛心研究,開發出新一代NANOTRAC WAVE II微電場分析技術,融納米顆粒粒度分佈與Zeta電位測量於一體,無需傳統的比色皿,一次進樣即可得到準確的粒度分佈和Zeta電位分析數據。與傳統的Zeta電位分析技術相比,NANOTRAC WAVE II採用先進的“Y”型光纖探針光路設計,配置膜電極產生微電場,操作簡單,測量迅速,無需精確定位由於電泳和電滲等效應導致的靜止層,無需外加大功率電場,無需更換分別用於測量粒度和Zeta電位的樣品池,完全消除由於空間位阻(不同光學元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學信號的損失,結果準確可靠,重現性好。

 

測量原理:

粒度測量:動態光背散射技術和全量程米氏理論處理

Zeta電位測量:膜電極設計與“Y”型探頭形成微電場測量電泳遷移率

分子量測量:水力直徑或德拜曲線

 

光學系統:

3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用矽光二極管接受背散射光信號,無需校正光路

 

軟件系統:

先進的FLEX軟件提供強大的數據處理能力,包括圖形,數據輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數據,Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數量,面積及光強分佈,包括積分/微分百分比和其他分析統計數據。數據的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和指定授權等。

 

外部環境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz

環境要求:溫度,10-35°C

國際標準:符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和ISO22412:2008

 

主要特點:

• 採用先進的動態光散射技術,引入能普概念代替傳統光子相關光譜法

• “Y”型光纖光路系統,通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分佈,在加載電流的情況下,與膜電極對應產生微電場,測量同一體系的Zeta電位, 避免樣品交叉污染與濃度變化。

• 異相多譜勒頻移技術,較之傳統的方法,獲得光信號強度高出幾個數量級,提高分析結果的可靠性。

• 可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產生的能譜,確保分析的靈敏度。

• 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計,減少了多重散射現象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。

• 快速傅利葉變換算法(FFT,Fast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統獲得的能譜,縮短分析時間。

• 膜電極設計,避免產生熱效應,能準確測量顆粒電泳速度。

• 無需比色皿,毛細管電泳池或外加電極池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內即可得到分析結果

• 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

產品參數
 
粒度分析範圍 0.3nm-10µm
重現性 誤差≤1%
濃度範圍 100ppb-40%w/v
檢測角度 180°
分析時間 30-120秒
準確性 全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子
測量精度 無需預選,依據實際測量結果,自動生成單峰/多峰分佈結果
理論設計溫度 0-90℃,可以進行程序升溫或降溫
兼容性 水相和有機相