關鍵字：膠體分散穩定性
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高低分子量的差異：CMP Slurry 的穩定性化學機械研磨(CMP)在半導體製造用於平坦化晶圓表面，對氧化膜具有高拋光效率的氧化鈰(IV)或稱為二氧化鈰常用於CMP，但其顆粒易快速沉澱和聚集，影響穩定性，導致研磨過程中產生磨損刮痕。為解決此問題，有必要調整鈰懸浮液漿料的配方以滿足CMP應用的穩定性要求需調整漿料配方。聚合物分散劑通過增加顆粒立體障礙的方式來穩定鈰顆粒，不同分子量的分散劑對穩定效果有不同影響。本研究使用Turbiscan LAB 分析三種不同分子量分散劑的鈰懸浮液，高分子量分散劑能更有效地穩定鈰懸浮液，減少顆粒沉降，顯示最佳穩定性；低分子量分散劑效果最差。較長的聚合物鏈促進更好的立體排斥，提升穩定性。
膠體分散穩定性分析攻略：Microtrac (Formulaction) 機型分析原理與挑選指南Microtrac (Formulaction) TURBISCAN 系列儀器，透過靜態多重光散射 (SMLS) 的運作原理，精準測量膠體分散穩定性，是配方開發、品質管理、法律合規、產品保存過程中的可靠助手。本文首先將帶您了解儀器量測的原理與應用，再提供產品優勢簡介與差異比對。