X射線螢光(XRF)是可用於測定多種類型樣品(包括固體、液體、漿料和疏鬆粉末)化學成分的分析技術。 X 射線螢光還用於確定分層和塗層的厚度和成分。 它可以分析從鈹 (Be) 到鈾 (U) 的各種元素，涵蓋從 100 wt% 到百萬分之一以下的濃度範圍。

XRF 是一種可靠的技術，結合了高精度和準確性以及簡便、快速的樣品製備等優點。 它可以在要求實現高處理量的工業環境下自動完成使用準備，並且提供定性和定量的樣品相關資訊。 這種定性和定量資訊的輕鬆組合還使快速篩選（半定量）分析成為可能。

XRF 是一種原子發射方法，類似於光發射光譜 (OES)、ICP 和中子活化分析（伽馬光譜）。 此類方法可以測量由樣品中的帶電原子發出的“光線”（此情況下為 X 射線）的波長和強度。 在 XRF 中，來自 X 射線光管主 X 射線光束的輻照會使螢光 X 射線的輻射呈現出樣品中所存在元素的分散能量特徵。用於樣品 X 射線螢光光譜分離（分散）、識別和強度測量的技術催生了兩種主要類型的光譜儀：
波長色散式 (WDXRF) 和能量色散式 (EDXRF)系統

X 射線螢光 (EDXRF) 光譜測定是一種無損式分析技術，可用於獲取不同類型材料的元素資訊。 它已在許多行業和應用領域中得到廣泛運用，包括：水泥生產、玻璃生產、採礦、選礦、鋼鐵及有色金屬、石油和石化、聚合物及相關行業、製藥、保健產品和環保。 光譜儀系統通常分為兩大類：波長色散式系統 (WDXRF) 和能量色散式系統 (EDXRF)。 兩者之間的區別在於檢測系統。

 

	Epsilon	Epsilon Xflow	Zetium	Axios FAST	2830 ZT
	佔地面積小，功能強大	直接洞悉您生產流程	卓越的元素分析	極高的樣品處理量	先進的半導體薄膜計量解決方案
測量	元素分析, 汙染物檢測與分析, 元素量化	元素分析	薄膜測量,元素分析, 汙染物檢測與分析, 元素量化	薄膜測量, 元素分析, 元素量化	化學鑒定, 薄膜測量, 元素分析, 汙染物檢測與分析, 元素量化
元素範圍	Na-Am, C-Am	Na-Am	Be-U	Be-U	Be-U
解析度 (Mg-Ka)	145eV	135eV	35eV	35eV	35eV
LLD	1 ppm - 100%	1 ppm - 100%	0.1 ppm - 100%	0.1 ppm - 100%	0.1 ppm - 100%
樣品處理量		on-line	160per 8h day - 240per 8h day	240per 8h day - 480per 8h day	up to 25 wafers per hour
技術類型	Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)	Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)	Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)	Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)	Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)